第331章 流片成功!
直播1980:網友教我手搓火箭 作者:靈台三心 投票推薦 加入書簽 留言反饋
第331章流片成功!
......
第七天。
淩晨兩點零三分。
帝都的夜很安靜。
中關村的路燈壞了兩盞,沒人修。
地下室裏,vax-11的風扇嗡嗡地轉。
司徒淵敲下最後一個回車鍵。
仿真程序運行了五十一分鍾。
屏幕上的代碼,像瀑布一樣狂泄。
三個人誰都沒坐。
張秉謙站在屏幕左側,老花鏡推到了額頭上,反而不戴了。
林希站在右側,雙手插在褲兜裏。
司徒淵站在正中間,手搭在鍵盤邊框上,指甲蓋發白。
瀑布停止。
最後三行。
全是悅目的純綠色。
`isabustiming:passed`
`alltimingconstraints:met`
`totalvitions:0`
張秉謙摘下額頭上的老花鏡。
他沒喊,沒笑。
他把眼鏡折好,小心翼翼地放進胸口的口袋裏。
然後他蹲了下去。
蹲在冰涼的瓷磚地麵上,雙手捂住了臉。
肩膀在抖。
沒有聲音。
林希轉過頭,不去看他。
司徒淵也轉過頭。
去看那台冰箱大小的機器。
米白色的外殼上,dec的標誌在地下室的日光燈管下反著光。
他盯著那個標誌看了幾秒。
然後伸出手,輕輕地拍了拍機箱外殼。
“謝了。”他用英語說。
聲音很輕。
直播間安靜了整整八秒。
然後彈幕像潮水一樣湧上來。
【零違規!!!全部通過!!!】
【七天!三個人幹了別人一個團隊半年的活!】
【張工那雙膝蓋上的白印到底磨掉了幾層皮啊】
【不說了,眼睛進沙子了】
......
從中關村的地下室,到津門二廠的轟鳴。
短短幾天,猶如跨越了一個時代。
七月一號。
津門無線電二廠。
矽基產線全速開動。
這是gk-3光刻機浴火重生後的第一次實彈操演。
陳默親自操機,手指搭在對焦旋鈕上,眼睛貼著目鏡。
光柵尺的數字跳動,伺服電機精準補償每一個微米的誤差。
曝光。
顯影。
矽片上的線條清晰銳利,邊緣筆直。
刻蝕環節,boe槽液控溫穩定在三十五度。
第一批矽片過檢,溝槽完美。
陳默回頭衝林希豎了個大拇指。
直到離子注入。
長安771所支援的國產離子注入機是十年前的老型號。
蘇佩蘭和王鐵山兩個老師傅在機器旁邊守了一天一夜,反複調整參數。
打出來的矽片,送到顯微鏡下一看。
摻雜深度分布不均勻。
有的區域深了,有的區域淺了。
像一塊沒發好的麵,有些地方鼓著,有些地方癟著。
直接後果:芯片漏電。
測試探針紮下去,電流一路跑偏,根本鎖不住。
蘇佩蘭試了七組參數,全部失敗。
“機器太老了。”
她摘下防塵麵罩,額頭上全是汗。
“束流不穩,真空也拉不到位。”
車間裏的氣氛沉下去了。
光刻過了,刻蝕過了,偏偏倒在了最基礎的摻雜上。
林希站在注入機旁邊,手扶著冰涼的金屬外殼。
他閉上眼睛。
腦海中,直播間的彈幕已經開始翻湧。
(本章未完,請點擊下一頁繼續閱讀)第331章流片成功!(第2/2頁)
【離子注入!關鍵參數來了!!!】
【我查了771所這批機器的資料——核心問題是束流電流太低導致注入時間過長,矽片在真空腔裏受熱不均勻!】
【解法很簡單但很反直覺——把束流電流提上去!10ma!加速電壓拉到50kev!讓注入時間縮短,減少熱積累!】
【最關鍵的一步:真空度!必須拉到10的負5次方帕斯卡!不然殘餘氣體會和離子束發生散射,雜質分布肯定不均勻!】
【對!這台老機器的分子泵其實能達到這個真空度,但出廠預設太保守了,得手動調旁通閥把抽速拉滿!】
林希睜開眼。
“蘇師傅。”
蘇佩蘭回頭。
“束流電流調到10毫安。”
“加速電壓拉到50千電子伏特。”
蘇佩蘭愣了一下。
“電流10毫安?”
“這台機器設計上限才8……”
“旁通閥全開,把真空度拉到10的負5次方帕。”
林希的聲音很穩,
“抽速夠了以後,束流不會散。”
蘇佩蘭看了看旁邊的王鐵山。
王鐵山沉默了幾秒,走到機器後麵。
蹲下去看了看分子泵的參數銘牌。
“能拉到。”
他直起腰,
“負5次方沒問題,就是沒人敢這麽用。”
“那就用。”林希說。
王鐵山沒再猶豫。
他抱著扳手繞到機器背麵,擰開旁通閥。
蘇佩蘭深吸一口氣,坐回操作台。
束流電流:10ma。
加速電壓:50kev。
真空度讀數開始往下掉。
10的負3次方。
負4次方。
分子泵的聲音變得尖銳。
負5次方。
穩住了。
“注入。”林希說。
蘇佩蘭按下啟動鍵。
機器轟鳴聲驟然變調,像一頭沉睡的野獸被喚醒。
離子束擊中矽片表麵。
六十秒。
一百二十秒。
注入結束。
蘇佩蘭取出矽片,雙手端著,走到顯微鏡前。
車間裏所有人的呼吸都停了。
她把矽片放上載物台,調焦。
看了三秒。
又調了一下倍率。
再看了五秒。
她抬起頭。
嘴唇哆嗦了兩下。
“均勻的。”
她的聲音帶著哭腔。
“深度完全一致。”
王鐵山衝過去,把她從椅子上擠開,自己趴到目鏡上看。
看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。
“成了。”
兩個字。
直播間彈幕徹底爆炸。
【流片成功!!!華國矽基芯片流片成功了!!!】
【1983年!自主光刻機+自主離子注入!流片流程打通!】
【這幫老師傅是真的牛,參數給到位了,手上的活一點不含糊】
【哭了哭了,跪在地上畫版圖,趴在機器前調參數,這就是華國芯片的第一步】
林希站在車間中央。
周圍是沸騰的歡呼聲。
林希轉頭看向窗外。
七月底的津門,太陽正落。
晚霞把整個二廠的廠房染成暗紅色。
司徒淵不知道什麽時候走到他旁邊。
兩人並排站著,看著窗外。
“林總。”司徒淵開口。
“嗯。”
“流片成功了,但這隻是工程樣片。”
司徒淵推了推眼鏡。
“量產之前,還差最後一步,”
“封裝,測試。”
......
第七天。
淩晨兩點零三分。
帝都的夜很安靜。
中關村的路燈壞了兩盞,沒人修。
地下室裏,vax-11的風扇嗡嗡地轉。
司徒淵敲下最後一個回車鍵。
仿真程序運行了五十一分鍾。
屏幕上的代碼,像瀑布一樣狂泄。
三個人誰都沒坐。
張秉謙站在屏幕左側,老花鏡推到了額頭上,反而不戴了。
林希站在右側,雙手插在褲兜裏。
司徒淵站在正中間,手搭在鍵盤邊框上,指甲蓋發白。
瀑布停止。
最後三行。
全是悅目的純綠色。
`isabustiming:passed`
`alltimingconstraints:met`
`totalvitions:0`
張秉謙摘下額頭上的老花鏡。
他沒喊,沒笑。
他把眼鏡折好,小心翼翼地放進胸口的口袋裏。
然後他蹲了下去。
蹲在冰涼的瓷磚地麵上,雙手捂住了臉。
肩膀在抖。
沒有聲音。
林希轉過頭,不去看他。
司徒淵也轉過頭。
去看那台冰箱大小的機器。
米白色的外殼上,dec的標誌在地下室的日光燈管下反著光。
他盯著那個標誌看了幾秒。
然後伸出手,輕輕地拍了拍機箱外殼。
“謝了。”他用英語說。
聲音很輕。
直播間安靜了整整八秒。
然後彈幕像潮水一樣湧上來。
【零違規!!!全部通過!!!】
【七天!三個人幹了別人一個團隊半年的活!】
【張工那雙膝蓋上的白印到底磨掉了幾層皮啊】
【不說了,眼睛進沙子了】
......
從中關村的地下室,到津門二廠的轟鳴。
短短幾天,猶如跨越了一個時代。
七月一號。
津門無線電二廠。
矽基產線全速開動。
這是gk-3光刻機浴火重生後的第一次實彈操演。
陳默親自操機,手指搭在對焦旋鈕上,眼睛貼著目鏡。
光柵尺的數字跳動,伺服電機精準補償每一個微米的誤差。
曝光。
顯影。
矽片上的線條清晰銳利,邊緣筆直。
刻蝕環節,boe槽液控溫穩定在三十五度。
第一批矽片過檢,溝槽完美。
陳默回頭衝林希豎了個大拇指。
直到離子注入。
長安771所支援的國產離子注入機是十年前的老型號。
蘇佩蘭和王鐵山兩個老師傅在機器旁邊守了一天一夜,反複調整參數。
打出來的矽片,送到顯微鏡下一看。
摻雜深度分布不均勻。
有的區域深了,有的區域淺了。
像一塊沒發好的麵,有些地方鼓著,有些地方癟著。
直接後果:芯片漏電。
測試探針紮下去,電流一路跑偏,根本鎖不住。
蘇佩蘭試了七組參數,全部失敗。
“機器太老了。”
她摘下防塵麵罩,額頭上全是汗。
“束流不穩,真空也拉不到位。”
車間裏的氣氛沉下去了。
光刻過了,刻蝕過了,偏偏倒在了最基礎的摻雜上。
林希站在注入機旁邊,手扶著冰涼的金屬外殼。
他閉上眼睛。
腦海中,直播間的彈幕已經開始翻湧。
(本章未完,請點擊下一頁繼續閱讀)第331章流片成功!(第2/2頁)
【離子注入!關鍵參數來了!!!】
【我查了771所這批機器的資料——核心問題是束流電流太低導致注入時間過長,矽片在真空腔裏受熱不均勻!】
【解法很簡單但很反直覺——把束流電流提上去!10ma!加速電壓拉到50kev!讓注入時間縮短,減少熱積累!】
【最關鍵的一步:真空度!必須拉到10的負5次方帕斯卡!不然殘餘氣體會和離子束發生散射,雜質分布肯定不均勻!】
【對!這台老機器的分子泵其實能達到這個真空度,但出廠預設太保守了,得手動調旁通閥把抽速拉滿!】
林希睜開眼。
“蘇師傅。”
蘇佩蘭回頭。
“束流電流調到10毫安。”
“加速電壓拉到50千電子伏特。”
蘇佩蘭愣了一下。
“電流10毫安?”
“這台機器設計上限才8……”
“旁通閥全開,把真空度拉到10的負5次方帕。”
林希的聲音很穩,
“抽速夠了以後,束流不會散。”
蘇佩蘭看了看旁邊的王鐵山。
王鐵山沉默了幾秒,走到機器後麵。
蹲下去看了看分子泵的參數銘牌。
“能拉到。”
他直起腰,
“負5次方沒問題,就是沒人敢這麽用。”
“那就用。”林希說。
王鐵山沒再猶豫。
他抱著扳手繞到機器背麵,擰開旁通閥。
蘇佩蘭深吸一口氣,坐回操作台。
束流電流:10ma。
加速電壓:50kev。
真空度讀數開始往下掉。
10的負3次方。
負4次方。
分子泵的聲音變得尖銳。
負5次方。
穩住了。
“注入。”林希說。
蘇佩蘭按下啟動鍵。
機器轟鳴聲驟然變調,像一頭沉睡的野獸被喚醒。
離子束擊中矽片表麵。
六十秒。
一百二十秒。
注入結束。
蘇佩蘭取出矽片,雙手端著,走到顯微鏡前。
車間裏所有人的呼吸都停了。
她把矽片放上載物台,調焦。
看了三秒。
又調了一下倍率。
再看了五秒。
她抬起頭。
嘴唇哆嗦了兩下。
“均勻的。”
她的聲音帶著哭腔。
“深度完全一致。”
王鐵山衝過去,把她從椅子上擠開,自己趴到目鏡上看。
看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。
“成了。”
兩個字。
直播間彈幕徹底爆炸。
【流片成功!!!華國矽基芯片流片成功了!!!】
【1983年!自主光刻機+自主離子注入!流片流程打通!】
【這幫老師傅是真的牛,參數給到位了,手上的活一點不含糊】
【哭了哭了,跪在地上畫版圖,趴在機器前調參數,這就是華國芯片的第一步】
林希站在車間中央。
周圍是沸騰的歡呼聲。
林希轉頭看向窗外。
七月底的津門,太陽正落。
晚霞把整個二廠的廠房染成暗紅色。
司徒淵不知道什麽時候走到他旁邊。
兩人並排站著,看著窗外。
“林總。”司徒淵開口。
“嗯。”
“流片成功了,但這隻是工程樣片。”
司徒淵推了推眼鏡。
“量產之前,還差最後一步,”
“封裝,測試。”