第331章流片成功!


    ......


    第七天。


    淩晨兩點零三分。


    帝都的夜很安靜。


    中關村的路燈壞了兩盞,沒人修。


    地下室裏,vax-11的風扇嗡嗡地轉。


    司徒淵敲下最後一個回車鍵。


    仿真程序運行了五十一分鍾。


    屏幕上的代碼,像瀑布一樣狂泄。


    三個人誰都沒坐。


    張秉謙站在屏幕左側,老花鏡推到了額頭上,反而不戴了。


    林希站在右側,雙手插在褲兜裏。


    司徒淵站在正中間,手搭在鍵盤邊框上,指甲蓋發白。


    瀑布停止。


    最後三行。


    全是悅目的純綠色。


    `isabustiming:passed`


    `alltimingconstraints:met`


    `totalvitions:0`


    張秉謙摘下額頭上的老花鏡。


    他沒喊,沒笑。


    他把眼鏡折好,小心翼翼地放進胸口的口袋裏。


    然後他蹲了下去。


    蹲在冰涼的瓷磚地麵上,雙手捂住了臉。


    肩膀在抖。


    沒有聲音。


    林希轉過頭,不去看他。


    司徒淵也轉過頭。


    去看那台冰箱大小的機器。


    米白色的外殼上,dec的標誌在地下室的日光燈管下反著光。


    他盯著那個標誌看了幾秒。


    然後伸出手,輕輕地拍了拍機箱外殼。


    “謝了。”他用英語說。


    聲音很輕。


    直播間安靜了整整八秒。


    然後彈幕像潮水一樣湧上來。


    【零違規!!!全部通過!!!】


    【七天!三個人幹了別人一個團隊半年的活!】


    【張工那雙膝蓋上的白印到底磨掉了幾層皮啊】


    【不說了,眼睛進沙子了】


    ......


    從中關村的地下室,到津門二廠的轟鳴。


    短短幾天,猶如跨越了一個時代。


    七月一號。


    津門無線電二廠。


    矽基產線全速開動。


    這是gk-3光刻機浴火重生後的第一次實彈操演。


    陳默親自操機,手指搭在對焦旋鈕上,眼睛貼著目鏡。


    光柵尺的數字跳動,伺服電機精準補償每一個微米的誤差。


    曝光。


    顯影。


    矽片上的線條清晰銳利,邊緣筆直。


    刻蝕環節,boe槽液控溫穩定在三十五度。


    第一批矽片過檢,溝槽完美。


    陳默回頭衝林希豎了個大拇指。


    直到離子注入。


    長安771所支援的國產離子注入機是十年前的老型號。


    蘇佩蘭和王鐵山兩個老師傅在機器旁邊守了一天一夜,反複調整參數。


    打出來的矽片,送到顯微鏡下一看。


    摻雜深度分布不均勻。


    有的區域深了,有的區域淺了。


    像一塊沒發好的麵,有些地方鼓著,有些地方癟著。


    直接後果:芯片漏電。


    測試探針紮下去,電流一路跑偏,根本鎖不住。


    蘇佩蘭試了七組參數,全部失敗。


    “機器太老了。”


    她摘下防塵麵罩,額頭上全是汗。


    “束流不穩,真空也拉不到位。”


    車間裏的氣氛沉下去了。


    光刻過了,刻蝕過了,偏偏倒在了最基礎的摻雜上。


    林希站在注入機旁邊,手扶著冰涼的金屬外殼。


    他閉上眼睛。


    腦海中,直播間的彈幕已經開始翻湧。


    (本章未完,請點擊下一頁繼續閱讀)第331章流片成功!(第2/2頁)


    【離子注入!關鍵參數來了!!!】


    【我查了771所這批機器的資料——核心問題是束流電流太低導致注入時間過長,矽片在真空腔裏受熱不均勻!】


    【解法很簡單但很反直覺——把束流電流提上去!10ma!加速電壓拉到50kev!讓注入時間縮短,減少熱積累!】


    【最關鍵的一步:真空度!必須拉到10的負5次方帕斯卡!不然殘餘氣體會和離子束發生散射,雜質分布肯定不均勻!】


    【對!這台老機器的分子泵其實能達到這個真空度,但出廠預設太保守了,得手動調旁通閥把抽速拉滿!】


    林希睜開眼。


    “蘇師傅。”


    蘇佩蘭回頭。


    “束流電流調到10毫安。”


    “加速電壓拉到50千電子伏特。”


    蘇佩蘭愣了一下。


    “電流10毫安?”


    “這台機器設計上限才8……”


    “旁通閥全開,把真空度拉到10的負5次方帕。”


    林希的聲音很穩,


    “抽速夠了以後,束流不會散。”


    蘇佩蘭看了看旁邊的王鐵山。


    王鐵山沉默了幾秒,走到機器後麵。


    蹲下去看了看分子泵的參數銘牌。


    “能拉到。”


    他直起腰,


    “負5次方沒問題,就是沒人敢這麽用。”


    “那就用。”林希說。


    王鐵山沒再猶豫。


    他抱著扳手繞到機器背麵,擰開旁通閥。


    蘇佩蘭深吸一口氣,坐回操作台。


    束流電流:10ma。


    加速電壓:50kev。


    真空度讀數開始往下掉。


    10的負3次方。


    負4次方。


    分子泵的聲音變得尖銳。


    負5次方。


    穩住了。


    “注入。”林希說。


    蘇佩蘭按下啟動鍵。


    機器轟鳴聲驟然變調,像一頭沉睡的野獸被喚醒。


    離子束擊中矽片表麵。


    六十秒。


    一百二十秒。


    注入結束。


    蘇佩蘭取出矽片,雙手端著,走到顯微鏡前。


    車間裏所有人的呼吸都停了。


    她把矽片放上載物台,調焦。


    看了三秒。


    又調了一下倍率。


    再看了五秒。


    她抬起頭。


    嘴唇哆嗦了兩下。


    “均勻的。”


    她的聲音帶著哭腔。


    “深度完全一致。”


    王鐵山衝過去,把她從椅子上擠開,自己趴到目鏡上看。


    看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。


    “成了。”


    兩個字。


    直播間彈幕徹底爆炸。


    【流片成功!!!華國矽基芯片流片成功了!!!】


    【1983年!自主光刻機+自主離子注入!流片流程打通!】


    【這幫老師傅是真的牛,參數給到位了,手上的活一點不含糊】


    【哭了哭了,跪在地上畫版圖,趴在機器前調參數,這就是華國芯片的第一步】


    林希站在車間中央。


    周圍是沸騰的歡呼聲。


    林希轉頭看向窗外。


    七月底的津門,太陽正落。


    晚霞把整個二廠的廠房染成暗紅色。


    司徒淵不知道什麽時候走到他旁邊。


    兩人並排站著,看著窗外。


    “林總。”司徒淵開口。


    “嗯。”


    “流片成功了,但這隻是工程樣片。”


    司徒淵推了推眼鏡。


    “量產之前,還差最後一步,”


    “封裝,測試。”

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